请选择 进入手机版 | 继续访问电脑版
开启左侧

何止光刻机!国产巨头正式宣布,日、美垄断时不久矣

[复制链接]
千与千寻2019 发表于 2021-3-14 09:41:37 | 显示全部楼层 |阅读模式 打印 上一主题 下一主题
一直以来,重资产领域都不被人看好,就拿快递行业来说,当刘强东选择带领京东快递,奔赴重资产路线的时候,外界对其也是普遍看衰。但是如今我们再来看看的京东,已经凭借重资产的优势成为行业中的佼佼者,并且地位十分稳固。


而芯片的上游产业同样属于重资产领域,技术要求高,研发时间长,投入资金大,往往让很多的企业望而却步,而我国的很多企业也因为这种“拿来主义”,而遭受到了苦果,并且导致我国的芯片领域,一直处于落后的水平。
1.jpeg

其中尤其一个薄弱的环节就是光刻机,为了突破这一“垄断”级别的技术难题,从过去的一年到现在,我国新增的半导体企业超过了16000家,各大顶尖科研团队也在找寻解题之法,或寻求技术上的突破,或选择弯道超车,总之芯片自主化势在必得。


而在2月底的时候,清华大学宣布的一项极紫外光源技术,让我们看到了EUV光刻机方面的曙光。而其实我国芯片薄弱的环节又何止光刻机,在高端光刻胶领域,我们也一直被日、美垄断着,并且自给率不足5%,产能和价格的不受控,让我们始终处在被动的局面当中。
但目前国产巨头的正式宣布,让我们再一次看到了在该领域的希望,在3月8日,国产半导体企业上海新阳正式宣布,其已经成功引进了一台ASML-1400光刻机,而这台设备正是用来研发193nm Arf干法光刻胶,也让外界为之一振。


早在4年前,很多国产企业就开始专注于高端光刻胶的研发工作,但是一直受限于光刻设备的影响,而上海新阳在这种困难面前非但没有退缩,反而通过先后三轮的融资,拿到了大约35.5亿的资金,如今有了这台光刻机之后,上海新阳也被大家认为是最有可能在高端光刻胶领域取得实质进展的企业。


目前根据上海新阳光刻胶项目的最新进度来看,Arf光刻胶在2022年就能实现少量的销售,在2023年就能慢慢步入商用阶段,这样意味着,日、美垄断高端光刻胶领域时不久矣。

回复

使用道具 举报

您需要登录后才可以回帖 登录 | 立即注册

本版积分规则

商务咨询Archiver小黑屋

火山数码网